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迎戰(zhàn)三星、英特爾 臺(tái)積制程飆速
晶圓代工龍頭臺(tái)積電本周四（18日）將召開(kāi)法說(shuō)會(huì)，上周于美國(guó)圣荷西（San Jose）舉辦的2013年技術(shù)論壇中，卻意外宣示包括16納米鰭式場(chǎng)效晶體管（FinFET）、極紫外光（EUV）等新技術(shù)研發(fā)及投產(chǎn)進(jìn)度全部往前拉。 業(yè)
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半導(dǎo)體群雄卡位先進(jìn)制程 ASML EUV量產(chǎn)版設(shè)備提早出貨
隨半導(dǎo)體群雄卡位先進(jìn)制程，全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造公司荷蘭艾司摩爾(ASML-US)EUV量產(chǎn)版設(shè)備NXE:3300B擬將提早出貨，7臺(tái)銷售集中在亞太地區(qū)并約在第3季放量。 艾司摩爾預(yù)定在臺(tái)積電(2330-TW)(TSM-US)4月法說(shuō)會(huì)前
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市場(chǎng)抉擇極限 14nm制程是半導(dǎo)體業(yè)難以跨越的坎？
依照摩爾定律，全球半導(dǎo)體的工藝制程技術(shù)平均每?jī)赡赀M(jìn)入一個(gè)新世代。從理性分析來(lái)看，業(yè)界都認(rèn)為半導(dǎo)體業(yè)遲早會(huì)遇到技術(shù)上無(wú)法克服的物理極限，有人說(shuō)是10nm，也有人說(shuō)是7nm甚至是5nm。極限在哪里，最終將由市場(chǎng)做出
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14nm制程是半導(dǎo)體業(yè)難以跨越的坎？
業(yè)界都認(rèn)為半導(dǎo)體業(yè)遲早會(huì)遇到技術(shù)上無(wú)法克服的物理極限，有人說(shuō)是10nm，也有人說(shuō)是7nm甚至是5nm。極限在哪里，最終將由市場(chǎng)做出選擇依照摩爾定律，全球半導(dǎo)體的工藝制程技術(shù)平均每?jī)赡赀M(jìn)入一個(gè)新世代。從理性分析來(lái)
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14nm制程是半導(dǎo)體業(yè)難以跨越的坎？
業(yè)界都認(rèn)為半導(dǎo)體業(yè)遲早會(huì)遇到技術(shù)上無(wú)法克服的物理極限，有人說(shuō)是10nm，也有人說(shuō)是7nm甚至是5nm。極限在哪里，最終將由市場(chǎng)做出選擇 依照摩爾定律，全球半導(dǎo)體的工藝制程技術(shù)平均每?jī)赡赀M(jìn)入一個(gè)新世代。從理性分
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東芝：10nm以后僅靠ArF液浸多重曝光無(wú)法對(duì)應(yīng)
東芝在光刻技術(shù)會(huì)議“SPIE Advanced Lithography”上發(fā)表演講，介紹了對(duì)于擁有半節(jié)距10nm以下（sub-10nm half pitch）分辨率的四項(xiàng)光刻技術(shù)、主要從尺寸精度的觀點(diǎn)對(duì)其進(jìn)行比較的結(jié)果（演講編號(hào)：8685-2）。 此次
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Gigaphoton將LPP EUV光源輸出端最大等效功率提升至20W級(jí)別
Gigaphoton公司18日宣布已經(jīng)成功將LPP EUV光源產(chǎn)品的輸出端等效最大功率推進(jìn)到了20W水平。該公司達(dá)成這個(gè)目標(biāo)所使用的方法是，使用固態(tài)預(yù)脈沖激光器，100khz頻率的CO2激光來(lái)轟擊錫靶標(biāo)。采用這種方法，該公司在光
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24小時(shí)內(nèi)與兩位科技巨頭的偶遇
筆者曾經(jīng)在24小時(shí)之內(nèi)分別與Facebook CEO扎克伯格(Mark Zuckerberg)，以及一位我稱之為“EUV先生(Mr. EUV)”的半導(dǎo)體業(yè)界人士短暫相遇；他們?cè)诳萍籍a(chǎn)業(yè)界所從事的工作領(lǐng)域可說(shuō)是南轅北轍，但與他們的對(duì)談都讓我有一些
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浸潤(rùn)式微影壽命延長(zhǎng)EUV恐無(wú)出頭天？
當(dāng)193奈米微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程技術(shù)藍(lán)圖上已經(jīng)接近終點(diǎn)，下一代應(yīng)該是157奈米微影；德州儀器( TI )前段制程部門經(jīng)理Jim Blatchford雖然才剛完成采購(gòu)先進(jìn)157奈米微影系統(tǒng)的協(xié)商，他還是有點(diǎn)擔(dān)心這種未經(jīng)驗(yàn)證的技術(shù)。
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產(chǎn)業(yè)專家：14奈米節(jié)點(diǎn)是重大考驗(yàn)
2012年度國(guó)際電子元件大會(huì)( IEDM )于美國(guó)時(shí)間12月10日在舊金山登場(chǎng)，與會(huì)專家表示，半導(dǎo)體制程邁向14奈米節(jié)點(diǎn)時(shí)，可能無(wú)法達(dá)到通常每跨一個(gè)世代、晶片性能可提升30%的水準(zhǔn)，甚至只有一半；但仍會(huì)增加大量成本，主要是
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產(chǎn)業(yè)專家：14奈米節(jié)點(diǎn)是重大考驗(yàn)
2012年度國(guó)際電子元件大會(huì)( IEDM )于美國(guó)時(shí)間12月10日在舊金山登場(chǎng)，與會(huì)專家表示，半導(dǎo)體制程邁向14奈米節(jié)點(diǎn)時(shí)，可能無(wú)法達(dá)到通常每跨一個(gè)世代、晶片性能可提升30%的水準(zhǔn)，甚至只有一半；但仍會(huì)增加大量成本，主要是
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產(chǎn)業(yè)專家：14奈米節(jié)點(diǎn)是重大考驗(yàn)
2012年度國(guó)際電子元件大會(huì)(IEDM)于美國(guó)時(shí)間12月10日在舊金山登場(chǎng)，與會(huì)專家表示，半導(dǎo)體制程邁向 14奈米節(jié)點(diǎn)時(shí)，可能無(wú)法達(dá)到通常每跨一個(gè)世代、晶片性能可提升30%的水準(zhǔn)，甚至只有一半；但仍會(huì)增加大量成本，主要是
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18寸晶圓 英特爾找上臺(tái)積電、家登
英特爾技術(shù)長(zhǎng)Justin Rattner昨（4）日表示，半導(dǎo)體制程持續(xù)依循摩爾定律前進(jìn)，14納米將在明年按照進(jìn)度投產(chǎn)，英特爾也將擴(kuò)大與生產(chǎn)鏈中相關(guān)業(yè)者合作，搶先跨入18寸晶圓及極紫外光（EUV）微影等先進(jìn)技術(shù)世代。 根據(jù)
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晶片設(shè)備制造商ASML斥資25億美元收購(gòu)美國(guó)Cymer
全球領(lǐng)先晶片(芯片)設(shè)備制造商ASML斥資19.5億歐元(25億美元)購(gòu)買美國(guó)公司Cymer，以掌控對(duì)未來(lái)制造更小和更加智能的晶片至關(guān)重要的光學(xué)技術(shù)。這家荷蘭公司表示，這宗以現(xiàn)金加股權(quán)方式進(jìn)行的并購(gòu)交易，將加快超紫外線(
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ASML收購(gòu)CYMER以加速EUV技術(shù)發(fā)展
2012年10月17日，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)光刻系統(tǒng)巨頭阿斯麥控股（ASML）與光刻光源主供應(yīng)商西盟半導(dǎo)體（CYMER）聯(lián)合宣布：通過(guò)由阿斯麥通過(guò)股票加現(xiàn)金方式收購(gòu)西盟半導(dǎo)體價(jià)值19.5億歐元的所有流通股。收購(gòu)西盟半導(dǎo)體的目的是為了
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ASML收購(gòu)CYMER以加速EUV技術(shù)發(fā)展
2012年10月17日，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)光刻系統(tǒng)巨頭阿斯麥控股（ASML）與光刻光源主供應(yīng)商西盟半導(dǎo)體（CYMER）聯(lián)合宣布：通過(guò)由阿斯麥通過(guò)股票加現(xiàn)金方式收購(gòu)西盟半導(dǎo)體價(jià)值19.5億歐元的所有流通股。收購(gòu)西盟半導(dǎo)體的目的是為了
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摩爾定律正因EUV微影技術(shù)失去動(dòng)力
在2012年的國(guó)際超紫外光(EUV)微影技術(shù)研討會(huì)上，專家們一致認(rèn)為，過(guò)去幾十年來(lái)一直扮演半導(dǎo)體創(chuàng)新引擎的摩爾定律(MooresLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技術(shù)的延遲而失去動(dòng)力。為了因應(yīng)14nm以下制程，EUV系統(tǒng)需
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摩爾定律待突破超紫外光(EUV)微影技術(shù)延遲障礙
在2012年的國(guó)際超紫外光(EUV)微影技術(shù)研討會(huì)上，專家們一致認(rèn)為，過(guò)去幾十年來(lái)一直扮演半導(dǎo)體創(chuàng)新引擎的摩爾定律(Moore"sLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技術(shù)的延遲而失去動(dòng)力。為了因應(yīng)14nm以下制程，EUV系統(tǒng)需
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摩爾定律等待跨越微影障礙
在2012年的國(guó)際超紫外光(EUV)微影技術(shù)研討會(huì)上，專家們一致認(rèn)為，過(guò)去幾十年來(lái)一直扮演半導(dǎo)體創(chuàng)新引擎的摩爾定律(MooresLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技術(shù)的延遲而失去動(dòng)力。為了因應(yīng)14nm以下制程，EUV系統(tǒng)需
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摩爾定律等待跨越微影障礙
在2012年的國(guó)際超紫外光(EUV)微影技術(shù)研討會(huì)上，專家們一致認(rèn)為，過(guò)去幾十年來(lái)一直扮演半導(dǎo)體創(chuàng)新引擎的摩爾定律(Moore"sLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技術(shù)的延遲而失去動(dòng)力。為了因應(yīng)14nm以下制程，EUV系統(tǒng)需
