近來在半導體制程微縮的進展速度逐漸趨緩下,觀察未來的產業(yè)走勢,明導國際(Mentor Graphics)董事兼執(zhí)行總裁阮華德(Walden C. Rhines)表示,未來10年內,制程微縮將遇到經濟效益上的考慮,半導體產業(yè)將不再完全依循摩
過渡至65納米工藝的FPGA具備采用更小尺寸工藝所帶來的優(yōu)勢:低成本、高性能和更強的邏輯能力。盡管這些優(yōu)勢能夠為高級系統(tǒng)設計帶來激動人心的機會,但65納米工藝節(jié)點本身也帶來了新的挑戰(zhàn)。例如,在為產品選擇FPGA時
美國應用材料公司(AMAT)發(fā)布了支持20nm工藝以后的存儲器及邏輯IC的新CVD技術“Eterna FCVD(Flowable CVD)”。在20nm以后的工藝中,即使采用與目前相同的存儲器單元構造和晶體管構造,隨著微細化的發(fā)展,隔離元件
據美國物理學家組織網、英國《自然》雜志網站8月12日報道,美國哈佛大學化學家和工程師共同制造了一種最新的V形納米晶體管,外膜覆有一層磷脂雙分子層,能非常容易地進入細胞內部進行檢測,而不會對細胞造成任何可見
AVM公司在特拉華州美國地區(qū)法院對英特爾推出起訴,指控英特爾侵犯了它的一項芯片設計專利。AVM稱,它擁有一項名為“動態(tài)邏輯電路”的技術專利,美國專利編號是5,859,547。這項專利是關于使用高速和低功率動
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奔騰4芯片"動態(tài)邏輯電路"涉嫌侵權遭起訴
作者:Walden C Rhines,Mentor Graphics(EDA設計公司)的董事長及CEO,2008年它的銷售額為7.89億美元。在它的任期中公司的銷售額增長一倍,自1999年以來在全球三家EDA公司(Big 3) 中其增長率是最快的。在加入Mentor之
Diodes公司推出全新20V NPN及PNP雙極晶體管,它們采用超小型DFN1411-3表面貼裝封裝,能大大提升電源管理電路的功率密度和效率。該器件采用了Diodes第五代矩陣射極雙極工藝設計 (5 matrix emitter Bipolar process)。
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Diodes公司推出全新20V NPN及PNP雙極晶體管,它們采用超小型DFN1411-3表面貼裝封裝,能大大提升電源管理電路的功率密度和效率。該器件采用了Diodes第五代矩陣射極雙極工藝設計 (5 matrix emitter Bipolar process)。
Diodes公司推出全新20V NPN及PNP雙極晶體管,它們采用超小型DFN1411-3表面貼裝封裝,能大大提升電源管理電路的功率密度和效率。該器件采用了Diodes第五代矩陣射極雙極工藝設計 (5 matrix emitter Bipolar process)。
針對A類接口的讀寫器不能對B類CPU卡進行讀寫的問題,介紹一種可以對3 V的B類卡片進行讀寫的5 V 接觸式IC卡讀寫器,闡述了其硬件電路結構和單片機固件程序,介紹了對其進行操作的簡單上位機軟件。實驗結果表明,該讀寫器結構簡單、性能穩(wěn)定,對研制可同時操作3 V/5 V卡片的AB類接口設備有指導意義。
東芝在“2010 Symposium on VLSITechnology”上,發(fā)布了采用09年開始量產的40nm工藝SoC的低電壓SRAM技術。該技術為主要用于便攜產品及消費類產品的低功耗工藝技術。通過控制晶體管閾值電壓的經時變化,可抑制SRAM的最